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在真空鍍膜機(jī)鍍膜的時候，是要非常注重膜層的均勻效果的，如果膜層的均勻性不好，粗糙，就是一個不合格的產(chǎn)品，是不能出廠的。
那么真空鍍膜機(jī)鍍制的薄膜均勻性是如何來判定好與壞的呢？其實(shí)可以從三方面來考慮，一個是光學(xué)性質(zhì)方面，一個是化學(xué)性質(zhì)方面，一個是物理性質(zhì)方面。光學(xué)性質(zhì)就是指那粗糙度是否可以控制好，一般是要求達(dá)到1/10左右，大約就是100A，達(dá)到了這個數(shù)值的薄膜，其均勻性可以算是好的了，當(dāng)然，如果想精益求精，達(dá)到10A，或者更厲害的達(dá)到1A的話，那就需要相當(dāng)高的技術(shù)了，如果真的達(dá)到了這個數(shù)值，那膜層的表面就真的非常光滑了。
化學(xué)性質(zhì)就是薄膜化學(xué)成分的精確性，如果你需要鍍制何種膜，你就要確保構(gòu)造這種薄膜化學(xué)成分的精準(zhǔn)，不能摻雜了其它的成分，對于某些敏感的膜層，只有那么一丁點(diǎn)的雜質(zhì)都會影響其成膜后的效果，所以要非常注意，當(dāng)然也有些不太敏感的就不需要太注重那么多，但也不是說一點(diǎn)都不注重。物理性質(zhì)就是薄膜本身的結(jié)構(gòu)，特別指的就是晶格的有序度和匹配度，在鍍膜的過程中，因晶體排序的不同，會產(chǎn)生單晶、多晶、非晶的狀態(tài)，如果晶體內(nèi)部的每個部分相應(yīng)的宏觀性質(zhì)是一樣的話，那么薄膜的均勻性就是很好的。
真空鍍膜機(jī)鍍好膜層后，可以通過這些方面來看一下薄膜的均勻性是不是好的。
